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    電鍍設備的工藝要求

    發布時間:2022-7-6 14:42:00

    來源:http://www.panthersfanaticproshop.com/news834341.html

      電鍍設備鍍前處理工藝中,所用的主要設備有磨、拋光機、刷光機、噴砂機、滾光機和各類固定槽,具體的工藝要求如下:

      1. 鍍層與基體金屬、鍍層與鍍層之間,應有良好的結合力。

      2. 鍍層應結晶細致、平整、厚度均勻。

      3. 鍍層應具有規定的厚度和盡可能少的孔隙。

      4. 鍍層應具有規定的各項指標,如光亮度、硬度、導電性等。

      5. 電鍍時間及電鍍過程的溫度,決定鍍層厚度的大小。

      6.環境溫度為-10℃~60℃。

      7.輸入電壓為220V±22V或380V±38V。

      8.水處理設備*大工作噪聲應不大于80dB(A)。

      9.相對濕度(RH)應不大于95%。

      10.原水COD含量為100mg/L~150000mg/L。

      電鍍所需要的設備主要是整流電源、鍍槽、陽極和電源導線,還有按一定配方配制的鍍液。要使電鍍過程具有科研的或工業的價值,需要對電鍍過程進行控制,也就是要按照一定的工藝流程和工藝要求來進行電鍍,并且還要用到某些輔助設備和管理設備。

      


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